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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述熱壁LCVD裝置
答案：
LPCVD反應(yīng)器本身是以退火后的石英所構(gòu)成，環(huán)繞石英制爐管外圍的是一組用來(lái)對(duì)爐管進(jìn)行加熱的裝置，因?yàn)榉譃槿齻€(gè)部分，所以稱...
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述常壓?jiǎn)尉庋雍投嗑П∧こ练e裝置。
答案：
三種裝置不僅可以用于硅外延生長(zhǎng)，也較廣泛的用于GaAs，AsPAs，GeSi合金和SiC等其它外延層生長(zhǎng)；還可用于氧化硅...
問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述化學(xué)氣相沉積生產(chǎn)裝置
答案：
（1）氣相反應(yīng)室；
（2）加熱系統(tǒng)；
（3）氣體控制系統(tǒng)；
（4）排氣系統(tǒng)
