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本裝置所用的HYPO是()。
A、氧化劑
B、還原劑
C、鏈轉(zhuǎn)移劑
D、防粘劑
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氧化劑的配置量應(yīng)()。
A、按配方
B、比配方少
C、比配方多
D、不加硫酸銅
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氧化劑應(yīng)和()一同配制。
A、硫酸銅
B、EDTA
C、SPAN20
D、SPAN80
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