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問答題

【簡答題】為什么要采用LDD工藝？它是如何減小溝道漏電流的？

答案：溝道長度的縮短增加了源漏穿通的可能性，將引起不需要的漏電流，所以需要采用LDD工藝。輕摻雜漏注入使砷和BF2這些較大質(zhì)量...

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【簡答題】光刻和刻蝕的目的是什么？

答案：光刻的目的是將電路圖形轉(zhuǎn)移到覆蓋于硅片表面的光刻膠上，而刻蝕的目的是在硅片上無光刻膠保護的地方留下永久的圖形。即將圖形轉(zhuǎn)...

【簡答題】離子注入后為什么要進(jìn)行退火？

答案：

推進(jìn)，激活雜質(zhì)，修復(fù)損傷。