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問答題

【論述題】典型的光刻工藝主要有哪幾步？簡述各步驟的作用。

答案：涂膠→前烘→對準(zhǔn)與曝光→曝光后烘烤→顯影→堅(jiān)膜→顯影檢查

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【論述題】個(gè)投影曝光系統(tǒng)采用ArF光源，數(shù)值孔徑為0.6，設(shè)k1=0.6，n=0.5，計(jì)算其理論分辨率和焦深。

答案：

分辨率：
焦深：

【論述題】在光刻中，能夠在增加分辨率的同時(shí)增加聚焦深度嗎？為什么？

答案：不能！聚焦深度：在保持圖形聚焦的前提下，沿著光路方向晶圓片移動的距離是聚焦深度——
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