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多項(xiàng)選擇題

下列有關(guān)曝光系統(tǒng)的說(shuō)法正確的是（）。

A.投影式同接觸式相比，掩模版的利用率比較高
B.接觸式的分辨率優(yōu)于接近式
C.接近式的分辨率受到衍射的影響
D.投影式曝光系統(tǒng)中不會(huì)產(chǎn)生衍射現(xiàn)象
E.投影式曝光是目前采用的主要曝光系統(tǒng)

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多項(xiàng)選擇題

按曝光的光源分類，曝光可以分為（）。

A.光學(xué)曝光
B.離子束曝光
C.接近式曝光
D.電子束曝光
E.投影式曝光

單項(xiàng)選擇題

在VLSI工藝中，常用的前烘方法是（）。

A.熱空氣對(duì)流法
B.真空熱平板傳導(dǎo)法
C.紅外線輻射法
D.射頻感應(yīng)加熱法