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單項(xiàng)選擇題

在新一代的CMP中，有使用（）磨料在金屬表面上形成軟質(zhì)皮膜并加以去除的趨勢(shì)。

A.二氧化錳
B.鋁
C.氧化鉻
D.金剛石

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單項(xiàng)選擇題

金相學(xué)的研磨之所以會(huì)在研磨面上造成如刮傷般的痕跡是由于在制程中（）。

A.氧化鉻磨料溶水制成的研磨液
B.使用羊毛研磨墊
C.采用旋轉(zhuǎn)研磨墊加壓的方法
D.無法必免的機(jī)械損耗

多項(xiàng)選擇題

在對(duì)層間絕緣膜進(jìn)行CMP時(shí)，層間絕緣膜的表面會(huì)隨下列那些因素產(chǎn)生變化（）。

A.電路圖形結(jié)構(gòu)的凹凸
B.尺寸大小
C.位置分布
D.高度
E.密集程度