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多項(xiàng)選擇題

在離子注入完成后，檢驗(yàn)到硅片表面有顆粒污染嚴(yán)重的情況，該情況引起的主要問題有（）

A.在局部阻擋摻雜
B.對器件結(jié)構(gòu)造成連接或短路
C.對微小器件結(jié)構(gòu)造成溝型損傷
D.整片硅片報(bào)廢

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