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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述非晶氫化氮化硅(α-SiNx:H)薄膜的優(yōu)點(diǎn)及其制備工藝。
答案:
(1)H原子對(duì)硅材料中的體缺陷和晶界起到鈍化作用,降低表面復(fù)合速度,進(jìn)而提高VOC和ISC。
(2)氮化硅還有...
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問(wèn)答題
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答案:
(1)大于半導(dǎo)體禁帶寬度的入射光子在半導(dǎo)體中產(chǎn)生電子-空穴對(duì);
(2)空間電荷區(qū)產(chǎn)生的電子-空穴對(duì)在內(nèi)建電場(chǎng)作...
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