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填空題

a-Si：H以及合金材料，用（）、熱CVD、光CVD等氣相生長(zhǎng)法可以制造薄膜。

答案：等離子CVD

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答案：

目前廣泛有：化學(xué)氣相沉積法（CVD.、液相外延法（LPE.、固相結(jié)晶化法（SPC.