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判斷題

與干法刻蝕相比，濕法腐蝕的好處在于對下層材料具有高的選擇比，對器件不會帶來等離子體損傷，并且設備簡單。

答案：正確

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在刻蝕中用到大量的化學氣體，通常用氟刻蝕二氧化硅。

答案：正確

在半導體生產(chǎn)中，濕法腐蝕是最主要的用來去除表面材料的刻蝕方法。

答案：錯誤