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判斷題

離子注入中高能量意味著注入硅片更深處，低能量則用于超淺結(jié)注入。

答案：正確

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離子注入能夠重復(fù)控制雜質(zhì)的濃度和深度，因而在幾乎所有應(yīng)用中都優(yōu)于擴散。

答案：錯誤

離子注入的缺點之一是注入設(shè)備的復(fù)雜性。

答案：正確