在整個擴散過程中,雜質(zhì)不斷進入硅中,而表面雜質(zhì)濃度始終保持不變。
擴散開始時,表面放入一定量的雜質(zhì)源,而在以后的擴散過程中不再有雜質(zhì)加入,此種擴散稱為有限源擴散。