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問答題

【簡答題】擴(kuò)散摻雜與離子注入摻雜所形成的雜質(zhì)濃度分布各自的特點是什么？與擴(kuò)散摻雜相比離子注入摻雜的優(yōu)勢與缺點各是什么？

答案：擴(kuò)散雜質(zhì)所形成的濃度分布：雜質(zhì)摻雜主要是由高溫的擴(kuò)散方式來完成，雜質(zhì)原子通過氣相源或摻雜過的氧化物擴(kuò)散或淀積到硅晶片的表...

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【簡答題】簡述兩步擴(kuò)散的含義與目的？

答案：為了同時滿足對表面濃度、雜質(zhì)總量以及結(jié)深等的要求，實際生產(chǎn)中常采用兩步擴(kuò)散工藝：第一步稱為預(yù)擴(kuò)散或預(yù)淀積，在較低的溫度下...

保形覆蓋

答案：

保形覆蓋是指無論襯底表面有什么樣的傾斜圖形在所有圖形的上面都能沉積有相同厚度的薄膜。