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單項(xiàng)選擇題

（）工藝就是往晶圓片中注入離子，生成相應(yīng)的P、N類半導(dǎo)體的工藝。

A.氧化
B.摻雜
C.光刻
D.蝕刻

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單項(xiàng)選擇題

集成電路制造過程中，把版圖轉(zhuǎn)移到晶圓的過程叫（）。

A.設(shè)計(jì)規(guī)則
B.封裝
C.光刻
D.測試

單項(xiàng)選擇題

通常講的28nm工藝，是指（）。

A.wafer的直徑
B.管芯的大小
C.晶體管的面積
D.晶體管溝道長度