A.二次電子產(chǎn)率 B.反射電子產(chǎn)率 C.吸收電子產(chǎn)率 D.俄歇電子產(chǎn)率 E.特征X射線產(chǎn)率
A.2個(gè) B.4個(gè) C.16個(gè) D.32個(gè) E.64個(gè)
A.50nm~100nm B.0.2μm C.10μm D.2nm E.100μm