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單項選擇題

為避免EDI組件濃水中離子過度積累，需要將部分濃水排放。排放量為純水流量10～20％，排放掉的濃水由EDI（）補充。

A.濃水
B.極水
C.淡水
D.給水

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單項選擇題

EDI組件在運行過程中，濃水循環(huán)可以增加的濃水室導電性，同時提高濃水的流速有助于（）。

A.避免水垢的沉積
B.降低給水電導率
C.降低產(chǎn)品水電導率
D.降低模塊的電流

單項選擇題

EDI組件一般需要濃水循環(huán)，循環(huán)量為純水流量的15～30％。給水硬度<0.1mg/L不需要濃水循環(huán)，但是必要時應向給水添加（）。

A.硫酸鈣溶液
B.氯化鈉溶液
C.硫酸鈉溶液
D.氯化鈣溶液