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多項(xiàng)選擇題

?在現(xiàn)代Si CMOS IC金屬化工藝中，Ti和TiN的作用是（）。

A.TiN是勢壘層（阻擋層）
B.兩個都是導(dǎo)電層
C.Ti是粘結(jié)層或焊接層
D.TiN防反射層

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