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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】為什么要采用LDD工藝？它是如何減小溝道漏電流的？
答案：
溝道長(zhǎng)度的縮短增加了源漏穿通的可能性，將引起不需要的漏電流，所以需要采用LDD工藝。
輕摻雜漏注入使砷和BF<...
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】光刻和刻蝕的目的是什么？
答案：
光刻的目的是將電路圖形轉(zhuǎn)移到覆蓋于硅片表面的光刻膠上，而刻蝕的目的是在硅片上無(wú)光刻膠保護(hù)的地方留下永久的圖形。即將圖形轉(zhuǎn)...
