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氮化硅去除使用的是磷酸藥液。
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駐波效應(yīng)破壞了光刻膠圖形側(cè)壁的垂直性,也導(dǎo)致光刻膠CD測(cè)量的不穩(wěn)定。
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硅片邊緣勻膠后出現(xiàn)毛邊異常,是因?yàn)镋BR藥液量不足。
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