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問答題

【簡答題】哪種化學氣體經常用來刻蝕多晶硅？描述刻蝕多晶硅的三個步驟。

答案：多晶硅等離子刻蝕用的化學氣體通常是氯氣、溴氣或二者混合氣體。
刻蝕多晶硅的三步工藝：
1.預刻蝕，用于去...

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【簡答題】描述電子回旋共振（ECR）。

答案： ECR反應器在1~10毫托的工作壓力下產生很密的等離子體。它在磁場環(huán)境中采用2.45GHZ微波激勵源來產生高密度等離子體...

【簡答題】解釋發(fā)生刻蝕反應的化學機理和物理機理。

答案：在純化學機理中，等離子體產生的反應元素（自由基和反應原子）與硅片表面的物質發(fā)生應。物理機理的刻蝕中，等離子體產生的帶能粒...