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單項(xiàng)選擇題

堅(jiān)膜烘焙在加熱平板上進(jìn)行，溫度控制在（）。

A.100℃～150℃
B.130℃～200℃
C.110～130℃
D.85～120℃

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單項(xiàng)選擇題

在顯影過(guò)程中，對(duì)于正性抗蝕劑，顯影液的使用要求是（）。

A.顯影液可以使用丁酮
B.顯影液可以使用甲苯
C.顯影液可以使用丙酮
D.顯液可以使用甲基異丁基酮和異丙醇的1：1混合液

單項(xiàng)選擇題

當(dāng)需要刻蝕的圖形尺寸大于3um時(shí)，一般使用（）。

A.濕法刻蝕
B.濺射刻蝕
C.等離子體刻蝕
D.反應(yīng)離子刻蝕