多項選擇題

在用硅表測微量小硅時為什么習慣上按濃度由小到大的次序（）。

A.因要精確測定不同濃度二氧化硅顯色液的含硅量時，需先用無硅水沖洗比色皿2～3次后再測定；
B.如果按濃度由小到大的次序測定時，則可不沖洗比色皿而直接測定，這時引起的誤差不會超過儀器的基本誤差；
C.測定倒藥液時，則需增加沖洗次數(shù)，否則不易得到準確數(shù)值；
D.測定倒藥液時，可以不必增加沖洗次數(shù)就可以得到準確數(shù)值。

你可能感興趣的試題

多項選擇題

酸洗時為什么要加入緩蝕劑（）。

A.在酸洗過程中，同時存在著兩個化學反應過程，一是HCl對水垢的溶解；二是HCl對金屬基體的腐蝕；
B.加入緩蝕劑的目的就是最大限度地加速水垢的溶解；
C.加入緩蝕劑的目的就是最大限度地減緩水垢的溶解；
D.加入緩蝕劑的目的就是最大限度地減緩清洗過程中對金屬基體的腐蝕。

多項選擇題

對水質(zhì)分析有哪些基本要求（）。

A.正確地取樣，并使水樣具有代表性；
B.確保水樣不受污染，并在規(guī)定的可存放時間內(nèi)，做完分析項目；
C.確認分析儀器準確可靠并正確使用；
D.掌握分析方法的基本原理和操作，正確地進行分析結(jié)果的計算和校核。

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對水質(zhì)分析有哪些基本要求（）。

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酸洗時為什么要加入緩蝕劑（）。

對水質(zhì)分析有哪些基本要求（）。