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【簡答題】描述金屬復(fù)合層中用到的材料?
答案:
采用三明治金屬結(jié)構(gòu),包括:
(1)淀積Ti,使鎢塞和下一層金屬良好鍵合,層間介質(zhì)良好鍵合;
(2)A...
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【簡答題】為什么晶體管柵結(jié)構(gòu)的形成是非常關(guān)鍵的工藝?更小的柵長會引發(fā)什么問題?
答案:
因為它包括了最薄的柵氧化層的熱生長以及多晶硅柵的刻印和刻蝕,而后者是整個集成電路工藝中物理尺度最小的結(jié)構(gòu)。多晶硅柵的寬度...
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【簡答題】為什么要采用LDD工藝?它是如何減小溝道漏電流的?
答案:
溝道長度的縮短增加了源漏穿通的可能性,將引起不需要的漏電流,所以需要采用LDD工藝。輕摻雜漏注入使砷和BF2這些較大質(zhì)量...
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