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單項(xiàng)選擇題

濺鍍法，因?yàn)槠潆A梯覆蓋的能力不良，很容易造成因填縫不完全所留下的（）。

A.鳥嘴
B.空洞
C.裂痕
D.位錯(cuò)

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單項(xiàng)選擇題

不可以對(duì)SiO₂進(jìn)行干法刻蝕所使用的氣體是（）。

A.CHF₃
B.C₂F₆
C.C₃F₈
D.HF

單項(xiàng)選擇題

大硅片上生長(zhǎng)的（）的不均勻和各個(gè)部位刻蝕速率的不均勻會(huì)導(dǎo)致刻蝕圖形轉(zhuǎn)移的不均勻性。

A.薄膜厚度
B.圖形寬度
C.圖形長(zhǎng)度
D.圖形間隔