日韩欧美亚洲 _ 欧美亚洲一区 _ 日本亚洲欧美 _ 亚洲精品欧美 国产白袜脚足J棉袜在线观看_亚洲熟妇av一区二区三区_久久天天躁狠狠躁夜_精品众筹模特私拍在线
首頁
題庫
網(wǎng)課
在線模考
桌面端
登錄
搜標(biāo)題
搜題干
搜選項(xiàng)
0
/ 200字
搜索
填空題
CMP是一種表面()的技術(shù),它通過硅片和一個拋光頭之間的相對運(yùn)動來平坦化硅片表面,在硅片和拋光頭之間有(),并同時施加()。
答案:
全局平坦化;磨料;壓力
點(diǎn)擊查看答案
在線練習(xí)
手機(jī)看題
你可能感興趣的試題
填空題
硅片平坦化的四種類型分別是()、部分平坦化、()和()。
答案:
平滑;局部平坦化;全局平坦化
點(diǎn)擊查看答案
手機(jī)看題
填空題
終點(diǎn)檢測是指()的一種檢測到平坦化工藝把材料磨到一個正確厚度的能力。兩種最常用的原位終點(diǎn)檢測技術(shù)是()和()。
答案:
CMP設(shè)備;電機(jī)電流終點(diǎn)檢測;光學(xué)終點(diǎn)檢測
點(diǎn)擊查看答案
手機(jī)看題
微信掃碼免費(fèi)搜題