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填空題

刻蝕是用（）或（）有選擇地從硅片表面去除不需要材料的工藝過(guò)程，其基本目標(biāo)是（）。

答案：化學(xué)方法；物理方法；在涂膠的硅片上正確地復(fù)制掩膜圖形

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隨著銅布線中大馬士革工藝的引入，金屬化工藝變成刻蝕（）以形成一個(gè)凹槽，然后淀積（）來(lái)覆蓋其上的圖形，再利用（）把銅平坦化至ILD的高度。

答案：介質(zhì)；金屬；CMP

在干法刻蝕中發(fā)生刻蝕反應(yīng)的三種方法是（）、（）和（）。

答案：化學(xué)作用；物理作用；化學(xué)作用與物理作用混合