A.因要精確測(cè)定不同濃度二氧化硅顯色液的含硅量時(shí)，需先用無(wú)硅水沖洗比色皿2～3次后再測(cè)定；
B.如果按濃度由小到大的次序測(cè)定時(shí)，則可不沖洗比色皿而直接測(cè)定，這時(shí)引起的誤差不會(huì)超過(guò)儀器的基本誤差；
C.測(cè)定倒藥液時(shí)，則需增加沖洗次數(shù)，否則不易得到準(zhǔn)確數(shù)值；
D.測(cè)定倒藥液時(shí)，可以不必增加沖洗次數(shù)就可以得到準(zhǔn)確數(shù)值。

A.在酸洗過(guò)程中，同時(shí)存在著兩個(gè)化學(xué)反應(yīng)過(guò)程，一是HCl對(duì)水垢的溶解；二是HCl對(duì)金屬基體的腐蝕；
B.加入緩蝕劑的目的就是最大限度地加速水垢的溶解；
C.加入緩蝕劑的目的就是最大限度地減緩水垢的溶解；
D.加入緩蝕劑的目的就是最大限度地減緩清洗過(guò)程中對(duì)金屬基體的腐蝕。