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單項選擇題

下圖屬于什么光刻機？（）

A.接觸式光刻機
B.步進掃描光刻機
C.分布重復光刻機
D.接近式光刻機

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單項選擇題

對于0.25um及以下的隔離技術采用以下（）方式。

A.局部氧化隔離
B.PN結隔離
C.PN結-介質隔離
D.淺槽隔離

單項選擇題

WCVD工藝第一步是（）。

A.浸潤
B.成核
C.BULK
D.直接反應