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問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】干法刻蝕的目的是什么？例舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點(diǎn)。干法刻蝕的不足之處是什么？

答案： 干法刻蝕的主要目的是完整地把掩膜圖形復(fù)制到硅片表面上。
干法刻蝕的優(yōu)點(diǎn)：
1.刻蝕剖面是各向異性，具...
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